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名稱 - 反應式電漿真空鍍膜機
性能 - 利用高密度電漿,轟擊材料(20mm直徑),使透明導電薄膜具高光學特性與高導電特性,石英膜厚監控方式。
Use high-density plasma, bombardment material (20mm diameter), to coated the transparent conductive film which has high optical and electrical conductivity performance, quartz thickness monitor mode.
外觀 -
名稱 - 直接式監控真空鍍膜機
性能 - 監控波長350~2400nm連續可調,具光學與石英兩種膜厚監控方式。
Monitor Wavelength is 350~2400nm, Continuously adjustable, with quartz & optical film thickness monitoring methods。
外觀 -
名稱 - 間接式監控真空鍍膜機
性能 - 監控波長350~1100nm 連續可調,具光學與石英兩種膜厚監控方式。
Monitor Wavelength is 350~1100nm, Continuously adjustable, with quartz & optical film thickness monitoring methods。
外觀 -
名稱 - 直接式監控真空鍍膜機
性能 - 監控波長600~1650nm連續可調,具光學與石英兩種膜厚監控方式。
Monitor Wavelength is 600~1650nm, Continuously adjustable, with quartz & optical film thickness monitoring methods
外觀 -
 
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