研發技術
製程設備
鍍膜設備
Electron Gun Ion Assisted Evaporation
性能
高溫釜
性能
| 儀器：高溫釜 |
| 壓力：1.2kgs/cm2 |
| 溫度：121℃ |
雙軸輪刀切割機
性能
對向雙軸同時切割，8"工作範圍，切割精準度可達2um以下。
Super Multilayer Optical Coater
性能
高溫爐
性能
| 儀器：高溫爐 |
| 工作溫度：0℃~1200℃ |
單軸輪刀切割機
性能
單向單軸切割，6"工作範圍，切割精準度可達4um以下。
Dual Ion Beam Sputter
性能
快速耐候實驗機
性能
儀器：快速耐候實驗機
雙面拋光機
性能
最大工作尺寸為DIA 150mm，最薄加工厚度為0.2mm，拋光精度可達0.5um以下。
Optical Sputtering Systems
性能
標準型鹽水噴霧試驗機
性能
| 儀器： | 標準型鹽水噴霧試驗機 |
恆溫恆溼試驗機
性能
| 儀器： | 恆溫恆溼試驗機 |
| 溫度Range： | -40℃ ~ 100℃ |
| 濕度Range： | 20% ~ 95% |
冷熱衝擊試驗機
性能
| 儀器： | 冷熱衝擊試驗機 |
| 溫度Range： | (-40 ℃ ~ +200 ℃) |
半自動光譜量測儀
性能
六軸自動對光，半自動上下料，搭配Tunable Laser光源，光譜量測範圍1263~1640nm，解析度0.1pm。
手動光譜量測儀
性能
六軸自動對光，手動上下料，搭配Tunable Laser光源，光譜量測範圍1263~1640nm，解析度0.1pm。
半自動濾片外觀分類機
性能
自動外觀判定，快速的濾片分類排列，手動上下料。